분 자체는 입방 격자를 가진 일종의 알루미 노 실리케이트 화합물입니다. 주로 산소 브릿지로 연결된 실리콘과 알루미늄으로 구성되어 빈 프레임 워크 구조를 형성합니다. 구조에는 균일 한 기공 크기를 가진 기공과 깔끔한 배열과 넓은 내부 표면적을 가진 공동이 많이 있습니다. 또한 전기 가격이 낮고 이온 반경이 더 큰 금속 이온과 결합 상태의 물도 포함되어 있습니다. 물 분자는 가열 후에도 계속 소실되지만 결정 골격의 구조는 변하지 않기 때문에 같은 크기의 많은 공동이 형성되고 같은 직경의 많은 구멍으로 공동이 연결됩니다. 이 작은 기공은 직경이 균일하며 기공과 비교할 수 있습니다. 직경이 작은 분자는 모공 내부로 흡착되고 모공보다 큰 분자는 제외됩니다. 따라서 모양과 직경이 다른 분자, 극성이 다른 분자, 끓는점이 다른 분자, 포화 수준이 다른 분자를 분리 할 수 있습니다. 그것은" sieving" 분 자체라고합니다.

가스 산업에서 일반적으로 사용되는 분 자체 모델 :
A 형 : 칼륨 A (3A), 나트륨 A (4A), 칼슘 A (5A)
X 형 : 칼슘 X (10X), 나트륨 X (13X)
Y 형 : 나트륨 Y, 칼슘 Y

분 자체는 흡습력이 강하며 가스 정화 처리에 사용됩니다. 보관 중 공기에 직접 노출되지 않도록하십시오. 장기간 보관하고 수분을 흡수 한 분 자체는 사용 전에 재생해야합니다. 분 자체는 기름과 액체의 물을 피해야하며 그것을 사용할 때 기름과 액체 물과의 접촉을 피해야합니다.
화학 조성의 일반 공식은 다음과 같습니다. [M2 (Ⅰ) M (Ⅱ)] O.Al2O3.nSiO2.mH2O 여기서 M2 (Ⅰ) 및 M (Ⅱ)은 1가 및 2가 금속 이온, 대부분 나트륨 및 칼슘이고 n은 제올라이트의 실리콘 대 알루미늄 비율이라고합니다. 실리콘은 주로 규산 나트륨과 실리카겔에서 나오고 알루미늄은 알루 민산 나트륨과 Al (OH) 3에서 나옵니다. 그들은 수성 수산화 나트륨과 반응하여 만든 콜로이드입니다. 건조 후 제올라이트가되며 일반적으로 n=2 ~ 10, m=0 ~ 9입니다.
3A 분 자체
3A 분 자체는 칼륨 A 형 알루미 노 실리케이트를 의미합니다. 3A 분 자체는 임계 직경이 3A 이하인 분자를 흡착 할 수 있습니다. 산업에서 불포화 탄화수소 가스 (예 : 에틸렌, 프로필렌, 부타디엔 등)를 건조하는 데 자주 사용됩니다. 액체 (에탄올 등)의 건조는 석유 및 화학 산업에서 기체 및 액체상의 깊은 건조, 정제 및 중합에 필요한 선호되는 건조제입니다.
신청:
냉매 건조
열분해 가스 건조
천연 가스 건조
중공 유리에서 가스 또는 공기의 탈수
메탄올, 에탄올 및 기타 극성 화합물의 탈수
불포화 탄화수소 (예 : 에틸렌, 프로필렌, 부타디엔)의 탈수.
4A 분 자체
4A 분 자체는 나트륨 A 유형 알루미 노 실리케이트를 의미합니다. 4A 분 자체는 임계 직경이 4A 이하인 분자를 흡착 할 수 있습니다. 물, 메탄올, 황화수소, 이산화탄소, 이산화황, 에틸렌, 프로필렌 등을 흡착 할 수 있으며, 3A 분 자체에 흡착 할 수 있습니다. 모든 분자는 4A 타입으로 흡착이 가능합니다.
신청:
밸브의 냉매 및 공기 건조
가스 흐름에서 이산화탄소, 암모니아, 메탄올 제거
천연 가스, LPG, 공기, 불활성 가스 및 대기와 같은 탄화수소 건조 및 정제
전자 부품, 의약품, 식품 등을 건조시킵니다.
5A 분 자체
5A 분 자체는 칼슘 A 유형 알루미 노 실리케이트를 의미합니다. 5A 분 자체는 임계 직경이 5A 이하인 분자를 흡착 할 수 있습니다. 3A 및 4A 분 자체에 흡착 될 수있는 모든 분자는 5A에 흡착 될 수 있습니다. 선택적 흡착 공정을 통해 분지 쇄 탄화수소 및 고리 형 탄화수소와 분리 될 수 있습니다. 현재 산업계의 대규모 일반 이소 파라핀 분리 공정에 사용되고 있습니다.
신청:
석유 화학 산업에서 일반 이소 파라핀 분리
압력 스윙 흡착 공정에 의한 수소 및 산소 정제
석유, 천연 가스 및 기타 산업용 가스의 건조 및 정화, 가스 흐름에서 물, 이산화탄소 및 황과 같은 불순물 제거.
13X 분 자체
13X 분 자체는 알칼리 금속 알루미 노 실리케이트입니다. 나트륨 염 형태의 13X 분 자체는 10 옹스트롬의 유효 기공 크기를 가지며 10 옹스트롬 이하의 분자를 흡착합니다. 촉매 담체, 물 및 이산화탄소 공 흡착, 물 및 황화수소 가스 공 흡착에 사용할 수 있으며 주로 의약 및 공기 압축 시스템의 건조에 사용됩니다.
신청:
탄화수소와 천연 가스에서 황화수소와 메르 캅탄을 제거합니다.
공기 (공기 사전 정화) 및 기타 가스에서 이산화탄소와 물을 제거합니다.
공기에서 산소를 분리하고 촉매를 보호하며 탄화수소에서 산화물을 제거합니다.




